真空懸浮熔煉爐用途：
真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發展的一種熔煉方法，是在真空條件下或保護氣氛條件下對金屬材料進行熔煉處理。利用電磁力使爐料半懸浮，熔池與坩堝壁保持非接觸，使爐料不受坩堝材料的污染。有效的用于活潑金屬、高熔點金屬及其合金的熔煉主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬，
真空懸浮熔煉爐小型懸浮爐實驗用懸浮爐設備特點
1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉，干凈無污染。
2·冶煉溫度高，專門應用于高熔點難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。
3·采用磁懸浮IGBT電源，配合自助研發的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。
4·可鍋底成型或者澆鑄鑄造成型。
5·熔煉溫度高，可用于2000度及以上高溫金屬及合金的熔煉制備
采用臥式爐體，側部開門結構，進出料方便，爐體結構緊湊，占地空間較小。坩堝反映較強烈的材料（如鈦及其合金）更顯示出其優勢。在工業上廣泛應用于鈦、鋯及其合金的熔鑄。真空懸浮爐是為材料科學科研而設計的，是一種專用的現代化高純度熔煉設備。
二、主要技術參數
1、額定功率：30-200Kw
2、容量（以鐵計）：10g-5kg
3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz
4、分瓣冷坩堝：8-32瓣
5、冷態極限真空度：5Pa~6.7*10-4帕以下
